Multiscale simulation of metallic copper and copper oxide atomic layer deposition from Cu Beta-diketonates

1. Verfasser:
Verfasserangabe: Xiao Hu
Format: Buch, Hochschulschrift
Sprache: Deutsch
Englisch
veröffentlicht: Chemnitz: Universitätsverlag Chemnitz, 2018
Hochschulschriftenvermerk: Dissertation, Technische Universität Chemnitz, 2017
Auflage: [1. Auflage]
Schlagworte:
RVK-Klassifikation: ZN 4150Ähnliche Treffer finden
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ISBN: 9783961000531
3961000530
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