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Formation and properties of titanium disilicide: a study on the development of stress in Ti-Si thin films = Vorming en eigenschappen van titanium disilicide
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Personen und Körperschaften: | |
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Titel: | Formation and properties of titanium disilicide: a study on the development of stress in Ti-Si thin films = Vorming en eigenschappen van titanium disilicide/ door Johan Frank Jongste |
Hochschulschriftenvermerk: | Delft, Techn. Univ., Diss., 1994 |
Medientyp: | Buch Hochschulschrift |
Sprache: | Niederländisch, Englisch |
veröffentlicht: |
1994
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Schlagwörter: | |
Quelle: | Verbunddaten SWB |
Universitätsbibliothek
Verfügbar Bestellung |
Regalstandort:
DISS.38370
Literaturabteilung:
Magazin - Bereitstellung am folgenden Öffnungstag
Anmerkungen:
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