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Buchumschlag von Formation and properties of titanium disilicide: a study on the development of stress in Ti-Si thin films = Vorming en eigenschappen van titanium disilicide
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Formation and properties of titanium disilicide: a study on the development of stress in Ti-Si thin films = Vorming en eigenschappen van titanium disilicide

Gespeichert in:

Personen und Körperschaften: Jongste, Johan Frank (VerfasserIn)
Titel: Formation and properties of titanium disilicide: a study on the development of stress in Ti-Si thin films = Vorming en eigenschappen van titanium disilicide/ door Johan Frank Jongste
Hochschulschriftenvermerk: Delft, Techn. Univ., Diss., 1994
Medientyp: Buch Hochschulschrift
Sprache: Niederländisch, Englisch
veröffentlicht:
1994
Schlagwörter:
Quelle: Verbunddaten SWB

Universitätsbibliothek

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Barcode: S5A:DISS.38370
Regalstandort: DISS.38370
Literaturabteilung: Magazin - Bereitstellung am folgenden Öffnungstag
Anmerkungen:
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