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Buchumschlag von Dopant selection for control of charge carrier density and mobility in amorphous indium oxide thin-film transistors: Comparison between Si- and W-dopants
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Dopant selection for control of charge carrier density and mobility in amorphous indium oxide thin-film transistors: Comparison between Si- and W-dopants

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Bibliographische Detailangaben
Zeitschriftentitel: Applied Physics Letters
Personen und Körperschaften: Mitoma, Nobuhiko, Aikawa, Shinya, Ou-Yang, Wei, Gao, Xu, Kizu, Takio, Lin, Meng-Fang, Fujiwara, Akihiko, Nabatame, Toshihide, Tsukagoshi, Kazuhito
In: Applied Physics Letters, 106, 2015, 4
Medientyp: E-Article
Sprache: Englisch
veröffentlicht:
AIP Publishing
Schlagwörter: