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Buchumschlag von Growth model investigation for AlN/Al(Ga)InN interface growth by plasma-assisted molecular beam epitaxy for high electron mobility transistor applications
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Growth model investigation for AlN/Al(Ga)InN interface growth by plasma-assisted molecular beam epitaxy for high electron mobility transistor applications: Growth model investigati...

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Bibliographische Detailangaben
Zeitschriftentitel: physica status solidi (a)
Personen und Körperschaften: Aidam, Rolf, Diwo, Elke, Godejohann, Birte-Julia, Kirste, Lutz, Quay, Rüdiger, Ambacher, Oliver
In: physica status solidi (a), 211, 2014, 12, S. 2854-2860
Medientyp: E-Article
Sprache: Englisch
veröffentlicht:
Wiley
Schlagwörter: