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Relationship between edge roughness in mask pattern and charging in plasma etching
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Plasma Processes and Polymers |
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Personen und Körperschaften: | |
In: | Plasma Processes and Polymers, 17, 2020, 2 |
Medientyp: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
Wiley
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Schlagwörter: |