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Buchumschlag von Relationship between edge roughness in mask pattern and charging in plasma etching
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Relationship between edge roughness in mask pattern and charging in plasma etching

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Bibliographische Detailangaben
Zeitschriftentitel: Plasma Processes and Polymers
Personen und Körperschaften: Zhang, Peng
In: Plasma Processes and Polymers, 17, 2020, 2
Medientyp: E-Article
Sprache: Englisch
veröffentlicht:
Wiley
Schlagwörter: