Quasi-monolayer deposition of silicon dioxide

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In: Thin Solid Films, 250(1994), 1-2, S. 213 - 218
Format: E-Article
Sprache: Englisch
veröffentlicht: Elsevier BV
Schlagworte:
ISSN: 0040-6090
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finc.format ElectronicArticle
finc.mega_collection Elsevier BV (CrossRef)
finc.id ai-49-aHR0cDovL2R4LmRvaS5vcmcvMTAuMTAxNi8wMDQwLTYwOTAoOTQpOTAxODgtMA
finc.source_id 49
ris.type EJOUR
rft.atitle Quasi-monolayer deposition of silicon dioxide
rft.epage 218
rft.genre article
rft.issn 0040-6090
rft.issue 1-2
rft.jtitle Thin Solid Films
rft.tpages 6
rft.pages 213-218
rft.pub Elsevier BV
rft.date 1994-10-01
x.date 1994-10-01T00:00:00Z
rft.spage 213
rft.volume 250
authors Gasser Werner
Uchida Yasutaka
Matsumura Masakiyo
doi 10.1016/0040-6090(94)90188-0
languages eng
url http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(94)90188-0
version 0.9
x.subjects Materials Chemistry
Electronic, Optical and Magnetic Materials
Surfaces, Coatings and Films
Surfaces and Interfaces
Metals and Alloys
x.type journal-article