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Formation of Si-based organic thin films with low dielectric constant by using remote plasma enhanced chemical vapor deposition from hexamethyldisiloxane
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Thin Solid Films |
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Personen und Körperschaften: | , , |
In: | Thin Solid Films, 343-344, 1999, S. 457-460 |
Medientyp: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
Elsevier BV
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Schlagwörter: |