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Buchumschlag von Formation of Si-based organic thin films with low dielectric constant by using remote plasma enhanced chemical vapor deposition from hexamethyldisiloxane
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Formation of Si-based organic thin films with low dielectric constant by using remote plasma enhanced chemical vapor deposition from hexamethyldisiloxane

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Bibliographische Detailangaben
Zeitschriftentitel: Thin Solid Films
Personen und Körperschaften: Fujii, Toshiaki, Hiramatsu, Mineo, Nawata, Masahito
In: Thin Solid Films, 343-344, 1999, S. 457-460
Medientyp: E-Article
Sprache: Englisch
veröffentlicht:
Elsevier BV
Schlagwörter: