Arsenic doping kinetics in silicon during gas source molecular beam epitaxy

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben

Zeitschriftentitel:	Surface Science
Personen und Körperschaften:	Xie, M.-H., Zhang, J., Fernandez, J.M., Lees, A.K., Joyce, B.A.
In:	Surface Science, 397, 1998, 1-3, S. 164-169
Medientyp:	E-Article
Sprache:	Englisch
veröffentlicht:	Elsevier BV
Schlagwörter:	Materials Chemistry Surfaces, Coatings and Films Surfaces and Interfaces Condensed Matter Physics