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Use of a capacitance voltage technique to study copper drift diffusion in (porous) inorganic low-k materials
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Microelectronic Engineering |
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Personen und Körperschaften: | , |
In: | Microelectronic Engineering, 60, 2002, 1-2, S. 125-132 |
Medientyp: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
Elsevier BV
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Schlagwörter: |