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Buchumschlag von Selective Dry Etching of Zinc Telluride Using Aluminum Mask
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Selective Dry Etching of Zinc Telluride Using Aluminum Mask

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Zeitschriftentitel: Japanese Journal of Applied Physics
Personen und Körperschaften: Guo, Qixin, Matsumoto, Yuichi, Tanaka, Tooru, Nishio, Mitsuhiro, Ogawa, Hiroshi
In: Japanese Journal of Applied Physics, 43, 2004, 7R, S. 4157
Medientyp: E-Article
Sprache: Unbestimmt
veröffentlicht:
IOP Publishing
Schlagwörter: