An SiO2 Film Deposition Technology Using Tetraethylorthosilicate and Ozone for Interlayer Metal Dielectrics

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Bibliographische Detailangaben

Zeitschriftentitel:	Journal of The Electrochemical Society
Personen und Körperschaften:	Kubo, Akira, Homma, Tetsuya, Murao, Yukinobu
In:	Journal of The Electrochemical Society, 143, 1996, 5, S. 1769-1773
Medientyp:	E-Article
Sprache:	Unbestimmt
veröffentlicht:	The Electrochemical Society
Schlagwörter:	Materials Chemistry Electrochemistry Surfaces, Coatings and Films Condensed Matter Physics Renewable Energy, Sustainability and the Environment Electronic, Optical and Magnetic Materials