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Buchumschlag von A Kinetic Model for Si[sub 1−x]Ge[sub x] Growth from SiH[sub 4] and GeH[sub 4] by CVD
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A Kinetic Model for Si[sub 1−x]Ge[sub x] Growth from SiH[sub 4] and GeH[sub 4] by CVD

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Bibliographische Detailangaben
Zeitschriftentitel: Journal of The Electrochemical Society
Personen und Körperschaften: Yang, Xiaolong, Tao, Meng
In: Journal of The Electrochemical Society, 154, 2007, 1, S. H53
Medientyp: E-Article
Sprache: Englisch
veröffentlicht:
The Electrochemical Society
Schlagwörter: