Thermal Plasma CVD of SiC under Reduced Pressure

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In: Journal of the Japan Institute of Metals, 56(1992), 4, S. 452 - 458
Format: E-Article
Sprache: Unbestimmt
veröffentlicht: Japan Institute of Metals
Schlagworte:
ISSN: 0021-4876
1880-6880
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