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Buchumschlag von Relaxation of Thermal Residual Stress in Laser Irradiated Fused Silica by Annealing Process
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Relaxation of Thermal Residual Stress in Laser Irradiated Fused Silica by Annealing Process

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Zeitschriftentitel: Materials Science Forum
Personen und Körperschaften: Li, Run Qiang, Yao, Peng, Wang, Wei, Wang, Jun, Huang, Chuan Zhen, Yang, Zhi Hong, Liu, Yue
In: Materials Science Forum, 874, 2016, S. 345-350
Medientyp: E-Article
Sprache: Unbestimmt
veröffentlicht:
Trans Tech Publications, Ltd.
Schlagwörter: