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Buchumschlag von Electrical Resistance in Ion Beam Mixed Al/Si Thin Films
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Electrical Resistance in Ion Beam Mixed Al/Si Thin Films

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Zeitschriftentitel: Japanese Journal of Applied Physics
Personen und Körperschaften: Xi, Xiao-Xing, Ran, Qi-Ze, Liu, Jia-Rui, Guan, Wei-Yan
In: Japanese Journal of Applied Physics, 26, 1987, S3-1, S. 707
Medientyp: E-Article
Sprache: Unbestimmt
veröffentlicht:
IOP Publishing
Schlagwörter: